SLA (Estereolitografia) é um processo de fabricação aditiva que funciona focando um laser UV em uma cuba de resina fotopolímérica.Com a ajuda do software de fabricação auxiliada por computador ou design auxiliado por computador (CAM/CAD), o laser UV é usado para desenhar um desenho ou forma pré-programada na superfície da cuba de fotopolímero.Os fotopolímeros são sensíveis à luz ultravioleta, portanto a resina é solidificada fotoquimicamente e forma uma única camada do objeto 3D desejado.Este processo é repetido para cada camada do design até que o objeto 3D esteja completo.
A CARMANHAAS pode oferecer ao cliente o sistema óptico que inclui principalmente scanner galvanômetro rápido e lente de varredura F-THETA, expansor de feixe, espelho, etc.
cabeça do varredor de 355nm Galvo
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabeça de digitalização selada/resfriada a água | sim | sim | sim |
| Abertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ângulo de digitalização eficaz | ±10° | ±10° | ±10° |
| Erro de rastreamento | 0,19ms | 0,28 ms | 0,45ms |
| Tempo de resposta ao passo (1% da escala completa) | ≤ 0,4ms | ≤ 0,6ms | ≤ 0,9ms |
| Velocidade Típica | |||
| Posicionamento/salto | < 15m/s | < 12m/s | < 9m/s |
| Varredura de linha/varredura raster | < 10m/s | < 7m/s | < 4m/s |
| Varredura vetorial típica | < 4m/s | < 3m/s | < 2m/s |
| Boa qualidade de escrita | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Alta qualidade de escrita | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Precisão | |||
| Linearidade | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolução | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilidade | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Desvio de deslocamento | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8 horas de desvio de compensação de longo prazo (após 15 minutos de aviso) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Faixa de temperatura operacional | 25°C±10°C | 25°C±10°C | 25°C±10°C |
| Interface de sinal | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 |
| Requisito de energia de entrada (CC) | ±15V @ 4A RMS máx. | ±15V @ 4A RMS máx. | ±15V @ 4A RMS máx. |
355 nmF-Teta Lentees
| Descrição parcial | Distância focal (mm) | Campo de digitalização (milímetros) | Entrada máxima Pupila (mm) | Distância de trabalho (mm) | Montagem Fio |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
expansor de feixe 355nm
| Descrição parcial | Expansão Razão | CA de entrada (milímetros) | Saída CA (mm) | Habitação Diâmetro (mm) | Habitação Comprimento (mm) | Montagem Fio |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
Espelho 355nm
| Descrição parcial | Diâmetro (mm) | Espessura (mm) | Revestimento |
| 355 Espelho | 30 | 3 | HR @ 355 nm, 45° AOI |
| 355 Espelho | 20 | 5 | HR @ 355 nm, 45° AOI |
| 355 Espelho | 30 | 5 | HR @ 355 nm, 45° AOI |
